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近日,我司又一項發(fā)明專利獲美國專利局正式授權(quán)(專利號:US 11,004,632 B1),這是我司第7項海外專利授權(quán),也是我司第29項發(fā)明專利。該專利主要涉及一種新型縱向磁場觸頭結(jié)構(gòu),有效解決了大容量縱向磁場觸頭結(jié)構(gòu)電阻大、溫升高的難題。此技術(shù)已應(yīng)用于24kV-6300A-90kA規(guī)格真空滅弧室,進一步鞏固了我司在真空滅弧室方面的技術(shù)先進地位。